表面汚染回収装置を活用した様々なニーズの提供ならNAS技研にお任せ下さい。

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会社案内

GREETING

ごあいさつ

代表取締役 櫻井信夫

有限会社NAS技研

代表取締役 櫻井信夫

常に新しい視野で挑戦し続けます

私たちが日常生活で使っているスマホ、テレビ、エアコン、自動車、電車などのほとんどの電化製品や交通機関を動かすために半導体デバイスが使われております。この半導体デバイスの基板材料となるのが、「シリコンウェーハ」です。 当社は2002年の設立以来、半導体産業に必要不可欠なこの「シリコンウェーハの表面に付着している微量汚染物質を回収する装置の開発・製造・販売を行っております。

NAS技研のモットーとして、従業員に毎日楽しく仕事に取り組んでもらうために、社内では犬と猫を飼っております。お客様応対も率先して対応いただいております。当社従業員も、時折休憩時に一緒に散歩をすることで心身共にリフレッシュできております。

半導体業界は目まぐるしく動き続けています。常に新しい視野で挑戦しお客様のニーズに合った製品とサービスをご提供できるように邁進する所存ですので、今後もより一層のご支援・ご愛顧のほどよろしくお願い申し上げます。

FEATURES

NAS技研の特徴

  1. 優れたバルクエッチング機能

    当社の技術の一つに、ウェーハ内部の汚染物質を回収するために表面全体を削っていく「バルクエッチング」という機能があります。
    バルクエッチングを行う際に重要なのが、表面を均一に掘っていけるかを判定する「平坦度」です。
    当社のバルクエッチングの性能は非常に優れ、10%以内の平坦度を保証しております。

  2. 世界トップクラスの汚染回収機能

    シリコンウェーハ側面の汚染回収操作である「ベベル回収」において国際特許を取得しています。
    親水面ウェーハの回収においても国内特許を取得し、世界トップクラスの機能性や技術力を誇っており、国内外における特許取得により技術力が評価いただいています。

  3. 万全なアフターサービス

    当社製品のメンテナンスは、海外・日本全国に対応しております。
    原則、国内外からメンテナンスの依頼を受けた場合、48時間以内にご連絡をしております。
    故障や装置の打合せなどで詳細を確認する場合は、Zoomミーティングなどのオンライン会議を適宜取引先様と開催をしております。
    製品のメンテナンス期限は設けておりませんので、企業様には安心して当社装置をご使用いただいております。

PATENT

取得特許

OUTLINE

会社概要

会社名 有限会社NAS技研
本社 〒190-1222
東京都西多摩郡瑞穂町箱根ヶ崎東松原 36-7
創業 2002年10月25日
資本金 300万円
事業内容 シリコンウェハ表面・側面の金属汚染回収装置および関連装置・製品の製造販売
職員数 正社員9名
主な取引先 国内の主要半導体メーカー、デバイス(半導体関連機器)メーカー、分析メーカー

STAFF

スタッフ紹介

ララ

ララ【♀】

社歴:9年目
業務内容:来客応対&社内パトロール

おちょこ

おちょこ【♂】

社歴:10年目
業務内容:従業員を癒すリフレッシュ役

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