表面汚染回収装置を活用した様々なニーズの提供ならNAS技研にお任せ下さい。

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会社案内

GREETING

ごあいさつ

取締役 櫻井信夫

有限会社NAS技研

取締役 櫻井信夫

常に新しい視野で挑戦し続けます

私たちが日常生活で使っているスマートフォン・テレビ・エアコン・自動車・電車などの、ほとんどの電化製品や交通機関を動かすために、半導体デバイスが使われております。この半導体デバイスの基板材料となるのが「シリコンウェーハ」です。ウェーハの表面には、微量の金属汚染物質が付着していることがあります。汚染が付着したウェーハを使って半導体を製造すると、性能や信頼性に悪影響を及ぼします。このウェーハの品質を検査するために、表面の汚染を回収して分析する必要があります。当社は2002年の設立以来、半導体産業に必要不可欠なウェーハの品質検査のため、表面に付着している微量の汚染物質を回収する装置の開発・製造・販売を行ってきました。

半導体業界は目まぐるしく動き続けています。常に新しい視野で挑戦し、お客様のニーズに合った製品とサービスをご提供できるように邁進する所存ですので、今後もより一層のご支援・ご愛顧のほどよろしくお願い申し上げます。

Catalog

カタログ

WEBカタログ

FEATURES

NAS技研の特徴

  1. 優れたバルクエッチング機能

    当社の技術の一つに、ウェーハ内部の汚染物質を回収するために表面全体を削っていく「バルクエッチング」という機能があります。
    バルクエッチングを行う際に重要なのが、表面を均一に掘っていけるかを判定する「平坦度」です。
    当社のバルクエッチングの性能は非常に優れ、10%以内の平坦度を保証しております。

  2. 世界トップクラスの汚染回収機能

    シリコンウェーハ側面の汚染回収操作である「ベベル回収」において国際特許を取得しています。
    親水面ウェーハの回収においても国内特許を取得し、世界トップクラスの機能性や技術力を誇っています。

  3. 万全なアフターサービス

    当社製品のメンテナンスは、海外・日本全国に対応しております。
    原則、国内外からメンテナンスの依頼を受けた場合、48時間以内にご連絡をしております。
    故障や装置の打合せなどで詳細を確認する場合は、オンライン会議を適宜取引先様と開催をしています。
    製品にメンテナンス期限はありませんので、長期間安心して当社装置をご使用いただけます。

PATENT

取得特許

OUTLINE

会社概要

会社名 有限会社NAS技研
本社 〒190-1222
東京都西多摩郡瑞穂町箱根ヶ崎東松原 36-7
創業 2002年10月25日
資本金 300万円
事業内容 シリコンウェハ表面・側面の金属汚染回収装置、およびバルクエッチング装置と関連機器の製造販売
職員数 正社員12名
主な取引先 国内の主要半導体メーカー、デバイス(半導体関連機器)メーカー、分析メーカー
社屋外観
社屋外観

STAFF

スタッフ紹介

ララ

ララ【♀】

社歴:11年目
業務内容:来客応対&社内パトロール

おちょこ

おちょこ【♂】

社歴:16年目
業務内容:従業員を癒すリフレッシュ役

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