●对于硅晶圆，全自动地进行气相分解→污染物采样→采样样品的稀释作业。
●对于憎水性和亲水性晶圆二者都可以采样（端面采样仅限憎水性晶圆）。
●对于大量晶圆有采样分析的需求时，本设备可以大显身手
●拥有对于采样液的计量和稀释功能，一旦晶圆上有药液残留时可以防止作业继续进行。
●独特的窗门双层结构，以防工作空间内的酸气氛和操作员一方的空气发生交叉污染。
●具有自动清洗采样用支架具的功能，削减了手工操作（※表面和端面二种支架具都适用）。
另外，还有“基体蚀刻→晶圆污染物采样”全自动设备（NAC-304）。
并且，近几年来，为减少污染，对于“基体蚀刻→晶圆污染物采样→ICP-MS自动对接并进行元素分析”一气完成的需求日益高涨（NAC-316）。
| 设备名称 | NAC-302 | NAC-304 | NAC-316 | |||||||
| 处理晶圆规格 | 125mm,150mm,200mm,300mm | 125mm,150mm,200mm,300mm | 300mm | |||||||
| 操作控制 | 设备自带电脑 | |||||||||
| 基体蚀刻功能 | ー | 〇 | 〇 | |||||||
| ICP-MS自动对接功能 | ー | ー | 〇 | |||||||
| ICP-MS检量线自动调节功能 | ー | ー | 〇 | |||||||
| 装载端口的支持 | ー | ー | 〇 | |||||||
| 采样基本模式 | 圆环形、固定半径、端面 | |||||||||
| 外形尺寸(WxDxH)(mm)(※1) | 1850×1350×2000 | 2000×1500×2000 | 1700×2800×2300 | |||||||
| 排放需求 | 排酸液、一般排气、排酸气 | |||||||||
| 安装环境 | 在干净的房间里 | |||||||||
| 所需外部资源 | 电源(AC100V 15A)、纯水、N2、干洁气源 | 电源(AC100V 15A)、纯水、O2、N2、干洁气源 | ||||||||
