业务内容
FEATURES
公司产品的特点
按硅晶圆行业中污染物采样技术的问题以及问题的解决方法为顺序，
介绍公司产品的特点。
以往的问题
晶圆端面污染物采样技术
- 基本上需要把平放的晶圆垂直竖起。
- 让晶圆旋转，难以实现只允许端面和采样液接触。
日本发明专利11-204604
C.Sparks et. Al., Proceedings of SPINE vol.5041(2003)pp.99.
问题点
- 晶圆垂直竖起旋转需要专用设备。
- 需要一定量的采样液，采样液太少就无法满足采样要求。
本公司的采样，可适宜于传统的水平放置旋转型设备、
而且开发出了仅需少量采样液的支架具。
本公司产品特有的解决方案
利用液体表面张力的端面采样支架具
- 晶圆端面接触从支架具侧面狭缝中稍微突起的采样液。
- 由于表面张力会使采样液表面突起，但采样液不会从狭缝中溢出。
端面采样描述
- 晶圆旋转时只允许晶圆端面接触采样液。
- 通过位置调整，使采样液不会被卷到旋转晶圆的正反面上。（已取得专利）
可使用这项技术的设备
AFTER SERVICE
售后服务
对购买本公司产品的顾客，NAS技研提供周到的售后服务。
如果有疑问或不明白的地方，请随时咨询。
关于维护
本公司产品的维保，已覆盖日本全国。为了确保采样设备的精度，对于半自动采样设备（SC系列）推荐进行一年一次的定期维保。
对于全自动采样设备（NAC系列），按定期维保合同每年进行3次维保。
维保没有设定时间期限，可安心使用本公司产品以及售后服务。
48小时内的修理响应
对本公司产品的修理委托，原则上48小时内予以响应(※我方会及时联系跟进)。
包含费用预算等在内，我方都会给予响应，请务必联系我方。
